Rezidence Eyebeam (USA) – podmínky odmítnutí, dopady technologií

Tématem rezidenčního programu, který organizuje platforma Eyebeam v New Yorku, jsou v roce 2020 „podmínky odmítnutí“. Rezidence je určená pro umělce, badatele, kreativce a další, kteří zkoumají dopady technologií na společnost skrze umění.

Platforma Eyebeam byla založena v roce 1998 jako prostor pro umělce a umělkyně, které ve své tvorbě experimentálně využívají a zkoumají technologie. Šestiměsíční rezidenční program od ledna do června 2020 je určen všem, kteří zkoumají vztah technologické inovace a tržní poptávky, model úspěchu a hodnoty založený na logice „výhra-prohra“, technologický odpad a těžbu zdrojů, technologii jako zdroj potěšení pro postižené, odmítnutí jako formu aktivismu, klimatickou spravedlnost jako klíčový princip při vyvíjení nových technologií, nová pojetí technologií či moc institucí. Čtyřem vybraným rezidentům či kolaborativním projektům bude uděleno stipendium ve výši 22 000 amerických dolarů.

Přihlášky je nutné odeslat do 21. června 2019.

Podrobnosti o rezidenci lze nalézt zde.

Zdroj: www.culturenet.cz

Print Friendly, PDF & Email
Líbil se Vám? Sdílejte článek s ostatními.
     
  
  
    

O lu

Historička umění Lucie Váchová (1975) absolvovala obor dějiny umění a kultury na ÚDU FF UK v Praze. Vedle výtvarné kritiky se věnuje také kurátorství. V letech 2011-15 pracovala v redakci časopisu Ateliér.